外媒报道,三星电子和SK海力士公司为了减少供应链风险,正研究多种韩国产的半导体制造相关材料和设备,想要以此来取代进口产品,进而保证自家半导体工厂的正常生产。
在两年多以前,日本就已经限制了向韩国出口EUV光刻胶,韩国行业高管表示,日本化工供应商与韩国芯片制造商正忙于规避日本政府收紧的出口管制政策,以减轻该政策带来的影响。
三星工厂方面正努力寻找韩国本土可靠的光刻胶供应商,目前正在测试的这个EUV光刻胶样品就是由自韩国某厂商提供的。预计在今年下半年会被正式用在14nm工艺DRAM生产上。
关于SK海力士,为了减少对进口产品的依赖,它目前已和韩国氢氟酸制造商达成合作,已经在韩国和中国的芯片工厂使用韩国产HF氢氟酸。
如今中国企业也在努力研发,以求逐步摆脱对于进口芯片制造设备的依赖。据悉,南大光电ArF光刻胶已经通过专家验收,将会被用于90nm到14nm工艺。关于7nm工艺用的光刻胶,目前只是小规模的投入生产,相关生产线正在构建当中,存在较多的不确定性。
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